ISSCC 2020年论文解析:硅光与电路集成

本期 ISSCC 论文解读有幸邀请到中科院半导体所的祁楠教授。 祁楠师兄博士毕业于清华大学微电子所,并随后在美国的高校、企业实验室工作,主要研究光通信电路和硅光电集成芯片,学术界和工业界的经验都非常丰富。 目前他的课题组跨光、电两个领域,主要围绕 CMOS 硅基光电集成、高速通信电路等芯片开展研究 ,并在包括固态电路领域的&nb ... 阅读更多

北京国望光学科技有限公司2024届校园招聘

招聘文本: 2024届研发/管理/工程技术岗招募 北京国望光学科技有限公司 一、企业介绍 企业简介 北京国望光学科技有限公司(以下简称国望光学)是我国面向极大规模IC制造装备产业发展需求而设立的一家战略性高技术企业,由北京市人民政府、中科院相关单位及自然人(研发经营团队)共同投资而成。公司注册股本金为30亿元,在长春、上海设有全资子公司。国望光学的研发与生产基地位于北京经济技术开发区亦庄马驹桥集成 ... 阅读更多

为什么说28纳米光刻机是一个解决光刻机困局的幻觉?

很多网友有一个严重的错觉:有了所谓28纳米浸没式光刻机,就可以通过多重曝光生产7纳米甚至5纳米芯片。 实际上二十年前,也就是2003年,ASML推出第一代浸没式DUV光刻机的时候,其目标是45纳米节点逻辑芯片。包括当年推出的浸没式DUV预生产型号TWINSCAN™ XT:1250i。 之后,ASML以大约2年一代的速度对浸没式DUV光刻机进行迭代,不断在光源、光学系统、套刻精度、温控等系统进行升级 ... 阅读更多

谈谈“我的中国芯”的那些事儿(2):ArF光刻光源如何进阶20W?

来源:https://www.163.com/dy/article/ICDV4OG60553OSM3.html?spss=dy_author#/ 电视剧《我的中国芯》未播就火,在全网引起热烈的讨论--预告片里的女主壮志满腔的发出誓言: 我们要做就做50瓦的领先国际水平的激光器。 编辑切换为居中 一些自媒体在解读“50瓦也叫做国际领先”的时候,还把一些虚假的信息贴出来做比较,比如说“哈工大研制了15 ... 阅读更多

探寻光刻技术前沿【2】:阿斯麦EUV光源功率提升的新路径

来源:https://www.163.com/dy/article/I79H80420553OSM3.html#/ 上篇我们讨论了ASML的EUV光源发生器的性能提升,并且提到如果需要进一步提升EUV光刻曝光晶圆的效率,就需要进一步提升EUV光源。今天我们看一下ASML的EUV光源功率提升的新进展。 预脉冲技术:LPP EUV光源的核心概念 我们知道,ASML的LPP EUV光源,是通过40千瓦以 ... 阅读更多

解读国产光刻机困局(八):中国的EUV光刻机原型到底是什么?

转载自,这里。 --我们从哪里来?又到哪里去? 前次我们初略探讨了长春光机所的EUV光刻机演示系统的2镜头球面Schwarzschild物镜,今天给大家仔细聊聊长春光机所--也可能是中国唯一的一套EUV光刻机原型到底是什么。 2003年长春光机所:金春水博士的EUV蓝图 2003年,历经千辛万苦完成国内首套可曝光EUV实验装置、初将毕业的长春光机所博士金春水,在博士论文里写下如下这段话(图1,图2 ... 阅读更多

光刻机的镜头是如何加工的?

 光刻机是生产芯片的关键设备之一,其工作方式类似于投影仪,把掩模版的图案缩小投影出来,使晶圆上的光刻胶受光照固化成型,得到电路图形,后续再以光刻胶图形为模版,通过刻蚀、沉积等手段制造电路。       为了在单位面积内集成更多晶体管(缩小晶体管的尺寸),光刻机所用的波长越来越短,以实现更高的分辨率。       深紫外(DUV)光刻机(使用248nm波长的KrF或19 ... 阅读更多

复电导率的推导

利用脈衝雷射蒸鍍法製備碲化鉍薄膜與兆赫波時域頻譜之研究

光刻机镜头是如何加工的?

     网络上有很多文章说德国蔡司公司用德国ALZMETALL(奥美特公司)GS-1400重型精密立式五轴摇篮机床把EUV光刻机镜头直接加工到20皮米的表面粗糙度,风闻最近也有帖子提到。我对此感到怀疑,查证了一下,我认为这是一个误传,于是就有了这篇帖子。        蔡司公司加工光刻机镜头确实要用到精密机床铣磨,但后续还要经过小磨头抛光、磁流变抛光和离子 ... 阅读更多

会议纪要丨ASML光刻机专家交流纪要!

2023年3月31日 核心信息: 逻辑电路高制程一般只是底部第一层、第二层对精度要求高,上层电路精度要求不高,落后光刻机也可以做,fab 厂是各种型号设备组合使用的。 焦深是焦点上下 10%范围可以得到合格成像质量,大焦深可以得到更大工艺窗口,焦深与光刻胶的厚度、晶圆的平整度、基台的误差等都是相关的,无法通过软件改变,只能从工艺上做调整。光源、透镜、图形密集度都会影响焦深。 Gigaphoton ... 阅读更多

光刻工艺相关文章

先进光刻技术的发展历程与最新进展 李艳丽 如何看待长春光机所 EUV 光刻机进展? 7nm 制程工艺如何实现? 会议纪要丨ASML光刻机专家交流纪要! 2021年 卡脖子系列——全球光刻机行业概览 【兆恒机械】光刻机详解——半导体工业界最为耀眼的明珠 深紫外光刻复杂照明光学系统设计 一种高na投影物镜 投影光刻物镜像质补偿策略与补偿技术研究_赵磊 高数值孔径投影光刻物镜的光学设计_徐明飞 纳米集成 ... 阅读更多

硅基光子学

Modulators in Silicon Photonics—Heterogenous Integration & and Beyond Integration Approaches4.1. BondingToday, there exist many methods of combining III–V semiconductor devices with Silicon PICs. ... 阅读更多

M42转RMS 转接环 显微微距摄影 显微镜物镜转尼康佳能单反 LJ01.WZH74.7499

今天在水鲜市场看到了用于显微摄影的转接环皮套,就找了生产这个产品的公司,发现还有便携式的金相显微镜。 原文链接 这个转接环是将显微镜物镜的RMS螺纹(奥林巴斯物镜和国产显微镜物镜都是RMS螺纹)转成M42接口,如果是徕卡或者尼康显微镜的物镜,它的物镜螺纹为M25*0.75mm,所以购买之前一定要确认好你是哪种物镜。然后配套M42转单反的接口,就可以利用显微镜的物镜进行显微拍摄。可以配套提供M42转 ... 阅读更多

计算摄影相关知识汇总

相机篇机器视觉检测的基础知识 - 基恩士 计算摄影综述,徐树奎, 涂 丹, 李国辉, 张 军 内置PGA的4.8 kHz、超低噪声、24位∑-∆型ADC 既然噪声在300nV左右,何不通过在读出电路中集成一个高性能的AD直接将信号输出呢?看上面的ADC噪声只有11nV,对总体的噪声增加值贡献很小了。再有就是经过积分放大之后再通过高性能AD将信号输出,可以评估积分放大器的性能。新填入的ADC的数目可 ... 阅读更多

探测器噪声综述

Johnson noise Thermal Agitation of Electricity in Conductors 1/f噪声(1/f Noise) 锁相放大器 To characterize the noise [56], the incident blackbody irradiance was blocked by a shield, whose highly reflecting s ... 阅读更多