光学

很多网友有一个严重的错觉：有了所谓28纳米浸没式光刻机，就可以通过多重曝光生产7纳米甚至5纳米芯片。 实际上二十年前，也就是2003年，ASML推出第一代浸没式DUV光刻机的时候，其目标是45纳米节点逻辑芯片。包括当年推出的浸没式DUV预生产型号TWINSCAN™ XT：1250i。 之后，ASML以大约2年一代的速度对浸没式DUV光刻机进行迭代，不断在光源、光学系统、套刻精度、温控等系统进行升级 … 阅读更多

来源：https://www.163.com/dy/article/ICDV4OG60553OSM3.html?spss=dy_author#/ 电视剧《我的中国芯》未播就火，在全网引起热烈的讨论–预告片里的女主壮志满腔的发出誓言： 我们要做就做50瓦的领先国际水平的激光器。 编辑切换为居中 一些自媒体在解读“50瓦也叫做国际领先”的时候，还把一些虚假的信息贴出来做比较，比如说“哈工大 … 阅读更多

来源：https://www.163.com/dy/article/I79H80420553OSM3.html#/ 上篇我们讨论了ASML的EUV光源发生器的性能提升，并且提到如果需要进一步提升EUV光刻曝光晶圆的效率，就需要进一步提升EUV光源。今天我们看一下ASML的EUV光源功率提升的新进展。 预脉冲技术：LPP EUV光源的核心概念 我们知道，ASML的LPP EUV光源，是通过40千瓦以 … 阅读更多

转载自，这里。 –我们从哪里来？又到哪里去？ 前次我们初略探讨了长春光机所的EUV光刻机演示系统的2镜头球面Schwarzschild物镜,今天给大家仔细聊聊长春光机所–也可能是中国唯一的一套EUV光刻机原型到底是什么。 2003年长春光机所：金春水博士的EUV蓝图 2003年，历经千辛万苦完成国内首套可曝光EUV实验装置、初将毕业的长春光机所博士金春水，在博士论文里写下如 … 阅读更多

 光刻机是生产芯片的关键设备之一，其工作方式类似于投影仪，把掩模版的图案缩小投影出来，使晶圆上的光刻胶受光照固化成型，得到电路图形，后续再以光刻胶图形为模版，通过刻蚀、沉积等手段制造电路。       为了在单位面积内集成更多晶体管（缩小晶体管的尺寸），光刻机所用的波长越来越短，以实现更高的分辨率。       深紫外（DUV）光刻机（使用248nm波长的KrF或19 … 阅读更多

利用脈衝雷射蒸鍍法製備碲化鉍薄膜與兆赫波時域頻譜之研究

先进光刻技术的发展历程与最新进展 李艳丽 如何看待长春光机所 EUV 光刻机进展？ 7nm 制程工艺如何实现？ 会议纪要丨ASML光刻机专家交流纪要! 2021年 卡脖子系列——全球光刻机行业概览 【兆恒机械】光刻机详解——半导体工业界最为耀眼的明珠 深紫外光刻复杂照明光学系统设计 一种高na投影物镜 投影光刻物镜像质补偿策略与补偿技术研究_赵磊 高数值孔径投影光刻物镜的光学设计_徐明飞 纳米集成 … 阅读更多

Modulators in Silicon Photonics—Heterogenous Integration & and Beyond Integration Approaches4.1. BondingToday, there exist many methods of combining III–V semiconductor devices with Silicon PICs. … 阅读更多