一文看懂半导体刻蚀设备
来源 | 国融证券、驭势资本研究所 智库 | 云脑智库(CloudBrain-TT) 云圈 | 进“云脑智库微信群”,请加微信:15881101905,备注研究方向 文章大纲 1.半导体刻蚀：占比较高的关键晶圆制造步骤 刻蚀是半导体制造三大步骤之一 干法刻蚀优势显著，已成为主流刻蚀技术 刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补 2.工艺 ... 阅读更多
每日归档： 2024年6月1日
国产晶圆厂的制造设备需求量预测！
集成电路产业链通常可分为设计、制造和封装测试，其中集成电路制造在晶圆厂完成，属于重资本、技术密集型产业。 集成电路制造工艺复杂，其主要工艺流程包括氧化、清洗、涂胶、烘干、光刻、显影洗胶、刻蚀、去胶、离子注入、薄膜沉积、化学机械打磨、测试、检测等，其中部分工序需要循环进行数次至数十次，生产工序达近千道。 复杂的工艺导致晶圆处理设备昂贵、复杂且种类数量繁多。晶圆制造环节中的设备即晶圆处理设备占整个集成 ... 阅读更多
北京国望光学科技有限公司2024届校园招聘
招聘文本： 2024届研发/管理/工程技术岗招募 北京国望光学科技有限公司 一、企业介绍 企业简介 北京国望光学科技有限公司（以下简称国望光学）是我国面向极大规模IC制造装备产业发展需求而设立的一家战略性高技术企业，由北京市人民政府、中科院相关单位及自然人（研发经营团队）共同投资而成。公司注册股本金为30亿元，在长春、上海设有全资子公司。国望光学的研发与生产基地位于北京经济技术开发区亦庄马驹桥集成 ... 阅读更多