物理

CATIA入门操作案例——创成式曲面设计案例，吹风机的绘制，多截面曲面的绘制，曲面偏移和修剪

本期 ISSCC 论文解读有幸邀请到中科院半导体所的祁楠教授。 祁楠师兄博士毕业于清华大学微电子所，并随后在美国的高校、企业实验室工作，主要研究光通信电路和硅光电集成芯片，学术界和工业界的经验都非常丰富。 目前他的课题组跨光、电两个领域，主要围绕 CMOS 硅基光电集成、高速通信电路等芯片开展研究 ，并在包括固态电路领域的&nb … 阅读更多

来源 | 国融证券、驭势资本研究所 智库 | 云脑智库(CloudBrain-TT) 云圈 | 进“云脑智库微信群”,请加微信:15881101905,备注研究方向 文章大纲 1.半导体刻蚀：占比较高的关键晶圆制造步骤 刻蚀是半导体制造三大步骤之一 干法刻蚀优势显著，已成为主流刻蚀技术 刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补 2.工艺 … 阅读更多

集成电路产业链通常可分为设计、制造和封装测试，其中集成电路制造在晶圆厂完成，属于重资本、技术密集型产业。 集成电路制造工艺复杂，其主要工艺流程包括氧化、清洗、涂胶、烘干、光刻、显影洗胶、刻蚀、去胶、离子注入、薄膜沉积、化学机械打磨、测试、检测等，其中部分工序需要循环进行数次至数十次，生产工序达近千道。 复杂的工艺导致晶圆处理设备昂贵、复杂且种类数量繁多。晶圆制造环节中的设备即晶圆处理设备占整个集成 … 阅读更多

DUV 3nm进展顺利，咱们采用了一种新的技术，可以这么认为叫做SADP+LELE。是一种混合了2者优势的技术，名字叫做：“自对准LELE技术”。专业术语也有：“SALELE”即：self-aligned LELE 技术。——————–关于大家担心的成本问题，如下：（这个成本计算是以最新的2021年标准化模式成本估 … 阅读更多

在即将于12月7日至11日在旧金山举行的国际电子器件会议（IEDM）上，Geoffrey Yeap将作题为“5nm CMOS Production Technology Platform Featuring Full-Fledged EUV and High-Mobility Channel FinFETs with Densest 0.021µm2 SRAM Cells for Mobile S … 阅读更多

转载：https://zhuanlan.zhihu.com/p/87673690#/ 本文由公众号半导体行业观察（ID：icbank）转载自[半导体百科]。 之前翻译的TSMC 5nm工艺总结 是Dick James发布在Semiconductor Digest上对台积电5nm制程的相关信息总结。从透露出来的信息来看，台积电将代替Intel，引领半导体制造行业的技术走向。James所提到 … 阅读更多

很多网友有一个严重的错觉：有了所谓28纳米浸没式光刻机，就可以通过多重曝光生产7纳米甚至5纳米芯片。 实际上二十年前，也就是2003年，ASML推出第一代浸没式DUV光刻机的时候，其目标是45纳米节点逻辑芯片。包括当年推出的浸没式DUV预生产型号TWINSCAN™ XT：1250i。 之后，ASML以大约2年一代的速度对浸没式DUV光刻机进行迭代，不断在光源、光学系统、套刻精度、温控等系统进行升级 … 阅读更多

来源：https://www.163.com/dy/article/ICDV4OG60553OSM3.html?spss=dy_author#/ 电视剧《我的中国芯》未播就火，在全网引起热烈的讨论–预告片里的女主壮志满腔的发出誓言： 我们要做就做50瓦的领先国际水平的激光器。 编辑切换为居中 一些自媒体在解读“50瓦也叫做国际领先”的时候，还把一些虚假的信息贴出来做比较，比如说“哈工大 … 阅读更多

来源：https://www.163.com/dy/article/I79H80420553OSM3.html#/ 上篇我们讨论了ASML的EUV光源发生器的性能提升，并且提到如果需要进一步提升EUV光刻曝光晶圆的效率，就需要进一步提升EUV光源。今天我们看一下ASML的EUV光源功率提升的新进展。 预脉冲技术：LPP EUV光源的核心概念 我们知道，ASML的LPP EUV光源，是通过40千瓦以 … 阅读更多

转载自，这里。 –我们从哪里来？又到哪里去？ 前次我们初略探讨了长春光机所的EUV光刻机演示系统的2镜头球面Schwarzschild物镜,今天给大家仔细聊聊长春光机所–也可能是中国唯一的一套EUV光刻机原型到底是什么。 2003年长春光机所：金春水博士的EUV蓝图 2003年，历经千辛万苦完成国内首套可曝光EUV实验装置、初将毕业的长春光机所博士金春水，在博士论文里写下如 … 阅读更多

 光刻机是生产芯片的关键设备之一，其工作方式类似于投影仪，把掩模版的图案缩小投影出来，使晶圆上的光刻胶受光照固化成型，得到电路图形，后续再以光刻胶图形为模版，通过刻蚀、沉积等手段制造电路。       为了在单位面积内集成更多晶体管（缩小晶体管的尺寸），光刻机所用的波长越来越短，以实现更高的分辨率。       深紫外（DUV）光刻机（使用248nm波长的KrF或19 … 阅读更多

https://huggingface.co/blog/rlhf 本文也提供英文版本 English。 OpenAI 推出的 ChatGPT 对话模型掀起了新的 AI 热潮，它面对多种多样的问题对答如流，似乎已经打破了机器和人的边界。这一工作的背后是大型语言模型 (Large Language Model，LLM) 生成领域的新训练范式：RLHF (Reinforcement Learn … 阅读更多