半导体

一文看懂半导体刻蚀设备

来源 | 国融证券、驭势资本研究所 智库 | 云脑智库(CloudBrain-TT) 云圈 | 进“云脑智库微信群”,请加微信:15881101905,备注研究方向 文章大纲 1.半导体刻蚀：占比较高的关键晶圆制造步骤 刻蚀是半导体制造三大步骤之一 干法刻蚀优势显著，已成为主流刻蚀技术 刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补 2.工艺 ... 阅读更多

国产晶圆厂的制造设备需求量预测！

集成电路产业链通常可分为设计、制造和封装测试，其中集成电路制造在晶圆厂完成，属于重资本、技术密集型产业。 集成电路制造工艺复杂，其主要工艺流程包括氧化、清洗、涂胶、烘干、光刻、显影洗胶、刻蚀、去胶、离子注入、薄膜沉积、化学机械打磨、测试、检测等，其中部分工序需要循环进行数次至数十次，生产工序达近千道。 复杂的工艺导致晶圆处理设备昂贵、复杂且种类数量繁多。晶圆制造环节中的设备即晶圆处理设备占整个集成 ... 阅读更多

DUV 3nm进展顺利，咱们采用了一种新的技术，可以这么认为叫做SADP+LELE

DUV 3nm进展顺利，咱们采用了一种新的技术，可以这么认为叫做SADP+LELE。是一种混合了2者优势的技术，名字叫做：“自对准LELE技术”。专业术语也有：“SALELE”即：self-aligned LELE 技术。--------------------关于大家担心的成本问题，如下：（这个成本计算是以最新的2021年标准化模式成本估计的，不是我编的，是搞来的，图也不是我画的，是业内大佬画的 ... 阅读更多

TSMC 5nm工艺总结

在即将于12月7日至11日在旧金山举行的国际电子器件会议（IEDM）上，Geoffrey Yeap将作题为“5nm CMOS Production Technology Platform Featuring Full-Fledged EUV and High-Mobility Channel FinFETs with Densest 0.021µm2 SRAM Cells for Mobile S ... 阅读更多

台积电5nm工艺详细解读 | 半导体行业观察

转载：https://zhuanlan.zhihu.com/p/87673690#/ 本文由公众号半导体行业观察（ID：icbank）转载自[半导体百科]。 之前翻译的TSMC 5nm工艺总结 是Dick James发布在Semiconductor Digest上对台积电5nm制程的相关信息总结。从透露出来的信息来看，台积电将代替Intel，引领半导体制造行业的技术走向。James所提到 ... 阅读更多

调研国产半导体制造——中芯国际

背景 中芯国际在北京、上海、天津、深圳分布有十座工厂： 工厂 地点 晶圆尺寸 制程 中芯上海 上海 8英寸x112英寸x1 0.35um-90nm14nm及以下（曾经） 中芯南方 上海 12英寸 14nm及以下（曾经） 中芯北京 北京 12英寸 0.18um-55nm 中芯北方 北京 12英寸 65nm-24nm 中芯天津 天津 8英寸 0.35um-90nm 中芯深圳 深圳 8英寸 0.35um ... 阅读更多

转载：一文看懂XRD基本原理

XRD全称X射线衍射（X-RayDiffraction）,利用X射线在晶体中的衍射现象来获得衍射后X射线信号特征，经过处理得到衍射图谱。利用谱图信息不仅可以实现常规显微镜的确定物相，并拥有“透视眼”来看晶体内部是否存在缺陷（位错）和晶格缺陷等，下面就让咱们来简要的了解下XRD的原理及应用和分析方法，下面先从XRD原理学习开始。 1 X射线衍射仪的基本构造 XRD衍射仪的适用性很广，通常用 ... 阅读更多

氧化钒综述

应力作用 文献 Vanadium Oxide Microbolometers with Patterned Gold Black or Plasmonic Resonant Absorbers Patterning of oxide-hardened gold black by photolithography and metal

数字微镜DMD信息

2021 年上半年中国智能投影市场销量为 231.2 万台，同比增长 43.3%；销额为 53.9 亿元，同比增长 41.5%，行业保持了持续的高增 微视传感 Preciseley https://preciseley.com/zh-hans/

黑磷迁移率的计算

where L,W refers to the length and width of the channel,  Cox denotes oxide capacitance per unit area, Ids/Vds  is the bias voltage and  refers to the differential conductance. L/W=0.5 ... 阅读更多

有效状态密度和状态密度有效质量

有效质量并不代表真正的质量，而是代表能带中电子受外力时，外力与加速度的一个比例系数（在准经典近似中，晶体电子在外力F*作用下具有加速度a*，所以参照牛顿第二定律定义的m*=F*/a*称作惯性质量）。 　　定义： 　　负的有效质量说明晶格对电子作负功，即电子要供给晶格能量，而且电子供给晶格的能量大于外场对电子作功。 有效质量概括了半导体内部势场的作用，使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时， ... 阅读更多