ISSCC 2020年论文解析:硅光与电路集成

本期 ISSCC 论文解读有幸邀请到中科院半导体所的祁楠教授。 祁楠师兄博士毕业于清华大学微电子所,并随后在美国的高校、企业实验室工作,主要研究光通信电路和硅光电集成芯片,学术界和工业界的经验都非常丰富。 目前他的课题组跨光、电两个领域,主要围绕 CMOS 硅基光电集成、高速通信电路等芯片开展研究 ,并在包括固态电路领域的&nb ... 阅读更多

一文看懂半导体刻蚀设备

来源 | 国融证券、驭势资本研究所 智库 | 云脑智库(CloudBrain-TT) 云圈 | 进“云脑智库微信群”,请加微信:15881101905,备注研究方向 文章大纲 1.半导体刻蚀:占比较高的关键晶圆制造步骤 刻蚀是半导体制造三大步骤之一 干法刻蚀优势显著,已成为主流刻蚀技术 刻蚀机主要分类:电容电感两种方式,优势互补 2.工艺 ... 阅读更多

国产晶圆厂的制造设备需求量预测!

集成电路产业链通常可分为设计、制造和封装测试,其中集成电路制造在晶圆厂完成,属于重资本、技术密集型产业。 集成电路制造工艺复杂,其主要工艺流程包括氧化、清洗、涂胶、烘干、光刻、显影洗胶、刻蚀、去胶、离子注入、薄膜沉积、化学机械打磨、测试、检测等,其中部分工序需要循环进行数次至数十次,生产工序达近千道。 复杂的工艺导致晶圆处理设备昂贵、复杂且种类数量繁多。晶圆制造环节中的设备即晶圆处理设备占整个集成 ... 阅读更多

北京国望光学科技有限公司2024届校园招聘

招聘文本: 2024届研发/管理/工程技术岗招募 北京国望光学科技有限公司 一、企业介绍 企业简介 北京国望光学科技有限公司(以下简称国望光学)是我国面向极大规模IC制造装备产业发展需求而设立的一家战略性高技术企业,由北京市人民政府、中科院相关单位及自然人(研发经营团队)共同投资而成。公司注册股本金为30亿元,在长春、上海设有全资子公司。国望光学的研发与生产基地位于北京经济技术开发区亦庄马驹桥集成 ... 阅读更多

DUV 3nm进展顺利,咱们采用了一种新的技术,可以这么认为叫做SADP+LELE

DUV 3nm进展顺利,咱们采用了一种新的技术,可以这么认为叫做SADP+LELE。是一种混合了2者优势的技术,名字叫做:“自对准LELE技术”。专业术语也有:“SALELE”即:self-aligned LELE 技术。--------------------关于大家担心的成本问题,如下:(这个成本计算是以最新的2021年标准化模式成本估计的,不是我编的,是搞来的,图也不是我画的,是业内大佬画的 ... 阅读更多

TSMC 5nm工艺总结

在即将于12月7日至11日在旧金山举行的国际电子器件会议(IEDM)上,Geoffrey Yeap将作题为“5nm CMOS Production Technology Platform Featuring Full-Fledged EUV and High-Mobility Channel FinFETs with Densest 0.021µm2 SRAM Cells for Mobile S ... 阅读更多

台积电5nm工艺详细解读 | 半导体行业观察

转载:https://zhuanlan.zhihu.com/p/87673690#/ 本文由公众号半导体行业观察(ID:icbank)转载自[半导体百科]。 之前翻译的TSMC 5nm工艺总结 是Dick James发布在Semiconductor Digest上对台积电5nm制程的相关信息总结。从透露出来的信息来看,台积电将代替Intel,引领半导体制造行业的技术走向。James所提到 ... 阅读更多

为什么说28纳米光刻机是一个解决光刻机困局的幻觉?

很多网友有一个严重的错觉:有了所谓28纳米浸没式光刻机,就可以通过多重曝光生产7纳米甚至5纳米芯片。 实际上二十年前,也就是2003年,ASML推出第一代浸没式DUV光刻机的时候,其目标是45纳米节点逻辑芯片。包括当年推出的浸没式DUV预生产型号TWINSCAN™ XT:1250i。 之后,ASML以大约2年一代的速度对浸没式DUV光刻机进行迭代,不断在光源、光学系统、套刻精度、温控等系统进行升级 ... 阅读更多

谈谈“我的中国芯”的那些事儿(2):ArF光刻光源如何进阶20W?

来源:https://www.163.com/dy/article/ICDV4OG60553OSM3.html?spss=dy_author#/ 电视剧《我的中国芯》未播就火,在全网引起热烈的讨论--预告片里的女主壮志满腔的发出誓言: 我们要做就做50瓦的领先国际水平的激光器。 编辑切换为居中 一些自媒体在解读“50瓦也叫做国际领先”的时候,还把一些虚假的信息贴出来做比较,比如说“哈工大研制了15 ... 阅读更多

探寻光刻技术前沿【2】:阿斯麦EUV光源功率提升的新路径

来源:https://www.163.com/dy/article/I79H80420553OSM3.html#/ 上篇我们讨论了ASML的EUV光源发生器的性能提升,并且提到如果需要进一步提升EUV光刻曝光晶圆的效率,就需要进一步提升EUV光源。今天我们看一下ASML的EUV光源功率提升的新进展。 预脉冲技术:LPP EUV光源的核心概念 我们知道,ASML的LPP EUV光源,是通过40千瓦以 ... 阅读更多

解读国产光刻机困局(八):中国的EUV光刻机原型到底是什么?

转载自,这里。 --我们从哪里来?又到哪里去? 前次我们初略探讨了长春光机所的EUV光刻机演示系统的2镜头球面Schwarzschild物镜,今天给大家仔细聊聊长春光机所--也可能是中国唯一的一套EUV光刻机原型到底是什么。 2003年长春光机所:金春水博士的EUV蓝图 2003年,历经千辛万苦完成国内首套可曝光EUV实验装置、初将毕业的长春光机所博士金春水,在博士论文里写下如下这段话(图1,图2 ... 阅读更多

光刻机的镜头是如何加工的?

 光刻机是生产芯片的关键设备之一,其工作方式类似于投影仪,把掩模版的图案缩小投影出来,使晶圆上的光刻胶受光照固化成型,得到电路图形,后续再以光刻胶图形为模版,通过刻蚀、沉积等手段制造电路。       为了在单位面积内集成更多晶体管(缩小晶体管的尺寸),光刻机所用的波长越来越短,以实现更高的分辨率。       深紫外(DUV)光刻机(使用248nm波长的KrF或19 ... 阅读更多

转载:ChatGPT 背后的“功臣”——RLHF 技术详解

https://huggingface.co/blog/rlhf 本文也提供英文版本 English。 OpenAI 推出的 ChatGPT 对话模型掀起了新的 AI 热潮,它面对多种多样的问题对答如流,似乎已经打破了机器和人的边界。这一工作的背后是大型语言模型 (Large Language Model,LLM) 生成领域的新训练范式:RLHF (Reinforcement Learn ... 阅读更多

复电导率的推导

利用脈衝雷射蒸鍍法製備碲化鉍薄膜與兆赫波時域頻譜之研究