日期: 2023 年 3 月 31 日

2023年3月31日 核心信息： 逻辑电路高制程一般只是底部第一层、第二层对精度要求高，上层电路精度要求不高，落后光刻机也可以做，fab 厂是各种型号设备组合使用的。 焦深是焦点上下 10%范围可以得到合格成像质量，大焦深可以得到更大工艺窗口，焦深与光刻胶的厚度、晶圆的平整度、基台的误差等都是相关的，无法通过软件改变，只能从工艺上做调整。光源、透镜、图形密集度都会影响焦深。 Gigaphoton … 阅读更多